DOI
是数位物件识别码
(
D
igital
O
bject
I
dentifier
)
的简称,
为物件在网路上的唯一识别码,可用于永久连结并引用目标物件。
使用DOI作为永久连结
每个DOI号前面加上
「
http://dx.doi.org/
」
便成为永久网址。
如以DOI号为
10.5297/ser.1201.002
的文献为例,此文献的永久连结便是:
http://dx.doi.org/
10.5297/ser.1201.002
。
日后不论出版单位如何更动此文献位置,永久连结所指向的位置皆会即时更新,不再错失重要的研究。
引用含有DOI的文献
有DOI的文献在引用时皆应同时引用DOI。若使用APA、Chicago以外未规范DOI的引用格式,可引用DOI永久连结。
DOI可强化引用精确性、增强学术圈连结,并给予使用者跨平台的良好使用经验,目前在全世界已有超过五千万个对象申请DOI。 如想对DOI的使用与概念有进一步了解,请参考 ( ) 。
Low Temperature Deposition of High Carrier Mobility and Low Contact Resistance Graphene
陈惟裕 , 硕士 导师:吴志毅
繁体中文 DOI: 10.6342/NTU201702348
石墨烯 ; 低温制程 ; 电浆辅助化学气相沉积法 ; 高载子迁移率 ; 低接触电阻 ; Graphene ; Low Temperature Deposition Process ; Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ; High Carrier Mobility ; Low Contact Resistance
- [1] Chaudhry, A and Kumar, MJ. (2004). Controlling short-channel effects in deep-submicron SOI MOSFETs for improved reliability: A review. IEEE TRANSACTIONS ON DEVICE AND MATERIALS RELIABILITY.
连结: - [2] A.K. Geim and K.S. Novoselov. (2007) The rise of graphene. Natural Materials.
连结: - [4] G.W. Semenoff. (1984).Condensed-matter simulation of a three-dimensional anomaly. Phys.Rev. Lett. 53, 2449–2452
连结: - [6] VanMil B L, Myers-Ward R L, Tedesco J L, et al. (2009). Graphene formation on SiC substrates. Mater. Sci. Forum, 615−617:211−214.
连结: - [7] Ching-Yuan Su, Yanping Xu, Wenjing Zhang, Jianwen Zhao, Xiaohong Tang, Chuen-Horng Tsai and Lain-Jong Li. (2009). Electrical and Spectroscopic Characterizations of Ultra-Large Reduced Graphene Oxide Monolayers. Chemistry of Materials Article.
连结: