题名

Phonon-Plasmon Interaction in GaN Films Studied by Raman Scattering

作者

C. C. Shen;C. K. Shu;H. C. Lin;W. K. Chen;W. H. Chen;M. C. Lee

关键词
期刊名称

Chinese Journal of Physics

卷期/出版年月

36卷1期(1998 / 02 / 01)

页次

27 - 31

内容语文

英文

英文摘要

GaN films of different buffer thicknesses (from 0 to 600 Å) were grown on (0001) sapphire using MOCVD. The epitaxial films show autodoping with carrier concentration ranging from 8x 10^16 to 5x 10^17 cm^-3 as determined by Hall measurements. The Raman scattering reveals that the A1(LO) mode shifts from 733 to 740 cm^-1 as a result of the phonon-plasmon interaction.

主题分类 基礎與應用科學 > 物理
被引用次数
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