题名 |
In situ X-Ray Analysis of Materials Growth and Processing |
DOI |
10.29808/JVSROC.200508.0012 |
作者 |
P. H. Fuoss;R.-V. Wang;J. A. Eastman;D. D. Fong;G. B. Stephenson;S. K. Streiffer;Carol Thompson;F. Jiang;G.-W. Zhou;L. E. Rehn;P. M. Baldo;L. J. Thompson |
关键词 | |
期刊名称 |
真空科技 |
卷期/出版年月 |
18卷2期(2005 / 08 / 01) |
页次 |
69 - 74 |
内容语文 |
英文 |
英文摘要 |
Synchrotron techniques provide versatile analysis capabilities for the in situ study of materials processing and, in particular, epitaxial growth of materials. This paper provides an overview of our application of x-ray scattering and spectroscopy techniques for in situ analysis of materials processing. |
主题分类 |
基礎與應用科學 >
基礎與應用科學綜合 基礎與應用科學 > 物理 工程學 > 工程學綜合 |
被引用次数 |