题名 |
光酸發生劑之化學與應用 |
并列篇名 |
The Chemistry of the Photoacid Generator and its Application |
DOI |
10.6623/chem.1997018 |
作者 |
賴榮豊(Long-Li Lai) |
关键词 |
光酸發生劑 ; 官能基 ; 聚合反應 ; 反應機制 ; 正型影像 ; 負型影像 ; Photoacid Generator ; Functional Group ; Polymerization ; Mechanism ; PositiveImage ; NegativeImage |
期刊名称 |
化學 |
卷期/出版年月 |
55卷2期(1997 / 06 / 01) |
页次 |
41 - 60 |
内容语文 |
繁體中文 |
中文摘要 |
光酸發生劑之重要性與日俱增,原因在於此類化合物熱穩定性佳,而且經光照射後造成此類化合物進行光分解作用而產生一酸分子物質。在適賞溫度下因酸分子之作用而改變周圍化合物之官能基,造成聚合反應,交聯反應,或是分解高分子。問其為深次微米半導休製程所使用之光阻劑中的重要成份,這更促成光酸發生劑反應機制之研究開發受到重視。 |
英文摘要 |
The importance of the photoacid generator is increasing recently ,as this kind of compound possesses a stable thermoproperty and will produce an acid molecule when irradiated under W or visible light. The acid molecule will change the functionality of the surrounding materials and result in the polymerization and crosslinking of the materials as well as the degradation of the resin. Moreover. as the photoacidgenerator is an importantcomponentof the photoresistgreatly used in the Ie industry. the research and developmentin this area is muchmore and more valued |
主题分类 |
基礎與應用科學 >
化學 |