DOI
是数位物件识别码
(
D
igital
O
bject
I
dentifier
)
的简称,
为物件在网路上的唯一识别码,可用于永久连结并引用目标物件。
使用DOI作为永久连结
每个DOI号前面加上
「
http://dx.doi.org/
」
便成为永久网址。
如以DOI号为
10.5297/ser.1201.002
的文献为例,此文献的永久连结便是:
http://dx.doi.org/
10.5297/ser.1201.002
。
日后不论出版单位如何更动此文献位置,永久连结所指向的位置皆会即时更新,不再错失重要的研究。
引用含有DOI的文献
有DOI的文献在引用时皆应同时引用DOI。若使用APA、Chicago以外未规范DOI的引用格式,可引用DOI永久连结。
DOI可强化引用精确性、增强学术圈连结,并给予使用者跨平台的良好使用经验,目前在全世界已有超过五千万个对象申请DOI。 如想对DOI的使用与概念有进一步了解,请参考 ( ) 。
ACI:
数据来源:Academic Citation Index,简称ACI
台湾最大的引用文献资料库,目前收录台湾与港澳地区所出版的人文学、社会学领域学术期刊之书目资料与参考文献,总期刊量超过690种,每年定期公布收录期刊的影响指数(Impact Factor)等指标给大众,并提供专家学者与学术单位实用的计量与分析功能。
五年影响指数(5-Year Impact Factor):某一期刊前五年所出版的文章在当年度的平均被引用次数。
公式:(前五年发表论文在统计年的被引用次数)÷(前五年论文产出论文总篇数)
例如:A期刊2017年之五年影响指数
(A期刊2012-2016年发表论文在2017年的被引总次数)/(A期刊2012-2016年发表的论文总数)
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为提供读者最前线之学术资讯,于期刊文献获同意刊登后、纸本印制完成前,率先于网路线上发表之文章即为预刊文章。预刊文章尚未有卷期、页次及出版日期资讯,但可藉由DOI号识别。 DOI号是文献的数位身份证字号,不论预刊或正式出版皆不会改变,读者可点击DOI连结,或于DOI号前面加上 「 http://dx.doi.org/ 」 连结到文献目前最新版本。
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doi:DOI 号
Thermal Stability of Metal-doped Cu3Ge Films
陈炳茂(Bing-Mau Chen) ; 陈冠仁(Kwan-Jen Chen) ; 吴明瑞(Ming-Juei Wu) ; 锺朝安(Chao-An Jong)
明新学报 ; 39 卷 1 期 (2013 / 02 / 01) , P23 - 31
繁体中文
锗化铜 ; 电子束蒸镀 ; 金属掺杂 ; 热稳定性 ; X光绕射 ; Cu3Ge ; Electron beam evaporation ; doping ; thermal stability ; X-ray
- Janardhanam, V; Kim, J-S; Moon, K; Lee, Y-B; Kim, D-G; Kang, S-M; Choi, C-J. (1948). Electrical and Microstructural Properties of Pt-Germanides Formed on p-Type Ge Substrate. Electrochemical Society, Pennington, NJ, ETATS-UNIS .
- Abele, J.C.,Trodahl, H.J.,Ruck, B.J.,Lopez, A.F.,Trnquist, L.J.,Lee, T.R.,Robinson, S.M.(1999).Vortex dynamics in Ta-Ge films with columnar defects.Phys. Rev. B,60,12448-12453.
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- Ashburn, S. P.,Ozturk, M. C.,Wortman, J. J.,Harris, G.,Honeycutt, J.,Maher, D. M.(1992).Formation of titanium and cobalt germanides on Si(100) using rapid thermal processing.J. Electron. Mater.,21(1),81-86.